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    光致發(fā)光(photoluminescence) 即PL，是用紫外、可見(jiàn)或紅外輻射激發(fā)發(fā)光材料而產(chǎn)生的發(fā)光，在半導體材料的發(fā)光特性測量應用中通常是用激光（波長(cháng)如325nm532nm、785nm 等）激發(fā)材料（如GaN、ZnO、GaAs 等）產(chǎn)生熒光，通過(guò)對其熒光光譜（即PL 譜）的測量，分析該材料的光學(xué)特性，如禁帶寬度等。光致發(fā)光可以提供有關(guān)材料的結構、成分及環(huán)境原子排列的信息，是一種非破壞性的、高靈敏度的分析方法，因而在物理學(xué)、材料科學(xué)、化學(xué)及分子生物學(xué)等相關(guān)領(lǐng)域被廣泛應用。
 

    傳統的顯微光致發(fā)光光譜儀都是采用標準的顯微鏡與熒光光譜儀的結合，但是傳統的顯微鏡在材料的PL 譜測量中，存在很大的局限性，比如無(wú)法靈活的選擇實(shí)驗所需的激光器（特別對于UV 波段的激光器，沒(méi)有足夠適用的配件），無(wú)法方便的與超低溫制冷機配合使用，采用光纖作為光收集裝置時(shí)耦合效率太低等等問(wèn)題，都是采用標準顯微鏡難以回避的問(wèn)題。

    北京卓立漢光儀器有限公司結合了公司十余年熒光光譜儀和光譜系統的設計經(jīng)驗和普遍用戶(hù)的實(shí)際需求，推出了“OmniPLMicroS”系列顯微光致發(fā)光光譜儀，有效的解決了上述問(wèn)題，是目前市場(chǎng)上 具性?xún)r(jià)比的的顯微PL 光譜測量的解決方案。

 性能特點(diǎn)：

●一體化的光學(xué)調校——所有光學(xué)元件只需要在初次安裝時(shí)進(jìn)行調校，確保高效性和易用性

● 簡(jiǎn)單易用的雙光路設計——可隨意在水平和垂直光路上進(jìn)行切換，適用于各種常見(jiàn)的樣品形態(tài)

● 超寬光譜范圍**——200nm-1600nm

● 視頻監視光路——可供調整測試點(diǎn)

● *的發(fā)射光譜校正功能*——讓光譜測量更精準且具有可比性

● 多種激發(fā)波長(cháng)可選**——325nm，405nm，442nm，473nm，532nm，633nm，785nm等

● 自動(dòng)mapping功能可選*——50mm×50mm測量區間，可定制特殊規格

● 電致發(fā)光(EL)功能可選*——擴展選項

● 顯微拉曼光譜測量功能可選*——擴展選項

● 超低溫測量附件可選*——提供10K以下的超低溫測量

*選配項，請詳細咨詢(xún)；

**需根據實(shí)際需要進(jìn)行配置確定。

參數規格表*

 應用
不同制冷溫度下GaN材料的PL譜
激發(fā)波長(cháng)：325nm，功率：20mW，制冷機 低制冷溫度：10K

ZnO材料的PL譜

激發(fā)波長(cháng)：325nm; ZnO 薄膜樣品在382nm 處有一個(gè)特別強的熒光譜帶，而在500 ～ 600nm 波段，有個(gè)弱的可見(jiàn)光熒光譜帶。

通過(guò)研究這些譜帶，可以反映ZnO 表面態(tài)對熒光的影響以及晶型和缺陷信息。