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光致熒光光譜測量是半導體材料特性表征的一個(gè)被普遍認可的重要測量手段。MiniPL為模塊化設計、計算機自動(dòng)控制的高靈敏度、寬帶隙小型PL(光致熒光)光譜儀;MiniPL采用Photon Systems公司自行研發(fā)的深紫外激光器224nm(5.5eV)或248.6nm(5eV)作為激發(fā)光源,配合*的光路設計,采用高靈敏度PMT作為探測器件,并通過(guò)儀器內置的門(mén)閘積分平均器(Boxcar)進(jìn)行數據處理,實(shí)現微弱脈沖信號的檢測。MiniPL可被用表征半導體材料摻雜水平分析、合成組分分析、帶隙分析等,不僅可用于科研領(lǐng)用,更可用在半導體LED產(chǎn)業(yè)中的品質(zhì)檢測。
主要規格特點(diǎn):
■ 采用5.5(224nm)或5.0 eV(248.6nm)深紫外激光器
■ 室溫PL光譜測量范圍:190~650nm(標準),190~850nm(選配)
■ 高分辨率:0.2nm(@1200g/mm光柵,標配),
0.07nm(@3600g/mm光柵,選配)
■ 門(mén)閘積分平均器(Boxcar)進(jìn)行微弱脈沖信號的檢測
■ 可實(shí)現量子效率測量
■ 基于LabView的界面控制
■ 光譜分析軟件可獲得光譜帶寬、峰值波長(cháng)、峰值副瓣鑒別、光譜數據運算、歸一化等
■ 大可測量50mm直徑樣品,樣品可實(shí)現XYZ三維手動(dòng)調整(標準)
■ 可選配自動(dòng)樣品掃描裝置,實(shí)現Mapping功能
■ 可用于紫外拉曼光譜測量
■ 高度集成化,體積:15 ×18 × 36cm,重量:<8kg
型號 | 規格描述 |
MiniPL 5.0eV | NeCu激光器(248.6nm),三維手動(dòng)調節樣品臺,單光柵 |
MiniPL 5.5eV | HeAg激光器(224.0nm) ,三維手動(dòng)調節樣品臺,單光柵 |
升級選項 | |
光電倍增管選項 | 升級為190-850nm |
光柵選項 | 增加第二塊光柵(3600g/mm) |
Mapping功能選項 | 升級為X-Y自動(dòng)掃描樣品臺 |
低溫制冷選項 | 4K,6.5K,10K低溫制冷樣品室,低震動(dòng)設計,振幅小于5nm (選配低溫選項時(shí)不能同時(shí)進(jìn)行Mapping測量) |
AlGaN光致發(fā)光光譜及PL Mapping光譜(含3D圖譜),樣品尺寸:直徑50mm(樣品由客戶(hù)提供)
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